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河南三博1200℃管式炉CVD系统

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详细说明

    广泛用于各种反应温度在1100℃左右的CVD实验，也可用于：真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。

TN-D3F型1200℃管式炉CVD系统

该仪器可广泛用于各种反应温度在1100℃左右的CVD实验，也可用于：真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。

技术参数：

1 产品名称 1200℃管式炉CVD系统

2 产品型号 TN-D3F型

3 显示模式 高亮数码管显示(LED)

4 炉膛模式 封闭式

5 炉膛材料 进口纤维

6 加热元件 进口合金加热丝

7 极限温度 1200℃

8 工作温度 ≤1150℃

9 升温速率 ≤20℃(建议:10℃/min)

10 加热温区 单温区

11 温区长度 200mm

12 恒温区长 100mm

13 炉管材料 高纯石英管

14 密封方式 真空法兰

15 气密性 真空法兰和刚玉炉管的气密性*高可达4.03×10-3Pa

16 测温元件 K型热电偶

17 控温精度 ±1℃

18 气体通道 可连接3种气源

19 电源 220v 50Hz～60Hz

 
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