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高真空CVD管式炉检测*选

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    主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。

TN-1200X-80型高真空CVD管式炉

该仪器是一个三温区真空管式炉主要用于大专院校、科研院所、工矿企业等试验和小批量生产之用。主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。

仪器的控制系统采用原装进口产品，具有操作容易，安全可靠，控温精度高（专家PID控制），保温效果好，温度范围大，炉膛温度均匀性高，温区多，可通气泵，抽真空等特点。

1 产品名称 高真空CVD管式炉

2 产品型号 TN-1200X-80

3 加热元件 电阻丝

4 加热区长度 220mm

5 恒温区长度 100mm

6 工作温度 ≤1100℃

7 *高温度 1200℃

8 控温方式 智能化30段可编程控制

9 恒温精度 ±1℃

10 炉门结构 开启式

11 工作电源 Ac220v 50Hz/60Hz

12 额定功率 2.5kw

13 外形尺寸 550x380x520mm

 
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